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反滲透設備如何延長設備使用壽命

欄目:行業(yè)資訊 發(fā)布時間:2020-07-31
?預處理質量的好壞是關系反滲透設備能夠穩(wěn)定運行的關鍵。當反滲透設備進水采用地下水時,采用石英砂和活性炭的預處理是沒有問題的,在使用地表水時就不同了。

        預處理質量的好壞是關系反滲透設備能夠穩(wěn)定運行的關鍵。當反滲透設備進水采用地下水時,采用石英砂和活性炭的預處理是沒有問題的,在使用地表水時就不同了。

        1、反滲透設備預處理藥劑

            與處理中使用的藥劑,包括混凝劑、助凝劑、氧化劑、還原劑、阻垢劑等,尤其是混凝劑和阻垢劑,這些藥劑的選擇、加藥量甚至藥品配方法都會對反滲透的運行有很大的影響。

            通常,我們會注意檢測進水的鐵含量,其實進水中的鋁含量高也會造成反滲透膜的污染。鋁對膜的污染是由于氫氧化鋁沉淀而導致的,氫氧化鋁沉淀物通常以膠體形式存在,是一種兩性氫氧化物,在6.5-6.7的pH范圍內具有很小的溶解度,如果鋁凝聚過程在太高或太低的pH值下進行,鋁離子將進入反滲透裝置中造成反滲透膜的污染,因此對于采用鋁鹽為凝聚劑的預處理系統(tǒng),其pH值最好控制在6.5-6.7,使鋁的溶解度達到最小,注意根據水質及時調整加藥量,可能的話要定期檢測經預處理過的水中的鋁含量,并控制在0.05mg/L以下。

            為了防止?jié)馑畟鹊慕Y垢,我們通常會加入阻垢劑,目前的阻垢劑對一些有機酸、有機磷酸鹽類物質復配而成,達到阻垢、分散的目的。如果選擇或控制不當,這些有機物會污堵反滲透膜元件,同時它也會成為滋生細菌微生物的溫床,并對反滲透的運行帶來更大的危害。

        2、溫度

            可能大家都知道溫度對反滲透膜元件的通量有很大的影響,因此在計算產水量的時候對溫度進行校核才能相互比較。所以在冬季水溫低的地方反滲透的預處理系統(tǒng)中會設計加熱設備,這樣可以有效保證冬季反滲透設備也能達到設計出力。

            其實膜元件中SiO?沉淀,也同反滲透裝置的進水溫度有密切的關系,濃水中的二氧化硅濃度,25℃時不能超過100mg/l,5℃時不能超過25mg/l。因此,當預處理系統(tǒng)中無加熱設備時,在冬季要十分注意二氧化硅沉淀物對膜元件的污染問題,嚴格控制濃水中的二氧化硅的含量,其值不能超過在該溫度下的溶解度。

        反滲透設備運行人員的培訓

            運行人員的既能水平的高低、取決于運行人員能否及時發(fā)現并正確處理系統(tǒng)的缺陷和隱患是影響反滲透設備運行的重要因素。運行人員的誤操作對系統(tǒng)的危害更大,而且對這種膜元件的損壞常常是無法恢復的。反滲透設備重啟前和運行后的沖洗工作一定要做好,防止設備中有殘余氣體在高壓下運行,形成氣錘會損壞膜,以及膜濃水側的無機鹽的濃度高于原水,易結垢而污染膜。

        反滲透設備的運行管理

            1、反滲透設備定期檢查

                定期檢查、及時更換保安過濾器濾芯,防止濾芯因安裝或質量問題發(fā)生泄漏所引起的反滲透膜的顆粒污染。當保安過濾器進口壓差大于0.15MPa時,應更換濾芯。一般應每月檢查一次,濾芯使用時間不宜超過6個月,運行時還應經常檢查保安過濾器內是夠有氣體,不能讓空氣帶入。

            2、反滲透膜元件的檢查

                (1) 一般每隔半年(必要時可縮短時間),要對每套反滲透的一段、二段膜元件進行檢查。

                (2)代開壓力容器端蓋(使用專用工具,并由技術熟練的技工操作)。

                (3)檢查進水段有無機械雜質、金屬氧化物沉積,有無細菌微生物滋生,膜元件顏色有無變化,檢查膜有無結垢。

                (4)如果需要還可以抽出反滲透膜元件進行細致檢查,再抽進水端膜元件時,一定不能直接抽,要把按水流方向它從壓力容器推出,安裝時同樣。

                (5)每次檢查完要做詳細記錄,以便進行對比。

            3、各表計定期校驗,保證儀表準確可靠。

            4、定期對反滲透設備運行數據分析統(tǒng)計。

        操作壓力、回收率(或濃水排放量)、進水的SDI(污染指數)、pH、余氯和溫度是反滲透裝置的主要運行控制參數;脫鹽率、產水量和壓差是三個主要監(jiān)視性能參數。在運行管理中必須嚴格遵守,決不能隨意改變操作條件。特別是要防止提高回收率來增加產水量,導致反滲透膜面產生結垢;要防止在SDI值超標的情況下繼續(xù)運行,導致反滲透膜的堵塞;要防止在允許最大壓差以上繼續(xù)工作而造成膜元件的破壞性損壞。

 


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